關於「DUV 光刻機原理」標籤，搜尋引擎有相關的訊息討論：

光刻机工艺的原理及设备 - 半导体芯科技。

2020年3月1日 · 目前EUV技术主要运用在逻辑工艺制程中，这导致了2019年订单量/需求量的上升。

现在所用的193nm光源DUV其实是2000年代就开始使用的了，然而在更短波长光源 ...： 。

[PDF] 2021年卡脖子系列—— 全球光刻机行业概览。

2021年5月14日 · 光刻机是制造芯片最为核心机器设备，被誉为“半导体工业皇冠上 ... EUV与DUV光刻区别在于所使用的理论分辨率、物镜组和光源不同，ArF 则是DUV深紫外光 ...： 。

【产业分析】#10 ASML的DUV光刻 - 猎星笔记。

2020年12月2日 · 首先是关于7nm DUV这件事，在ASML展区中，现场ASML工作人员对TWINSCAN NXT:1980Di的DUV光刻机原理进行了视频演示，据称，其可以用过多次曝光的手段 ...： 。

同样能造出7nm芯片，EUV光刻机对比DUV光刻机，区别在哪里？_光源。

2020年12月14日 · 首先，二者发光原理不同。

DUV光刻机光源为准分子激光，而EUV光刻机则是激光激发等离子来发射EUV光子。

通过不同方式， ...： 。

光刻机_百度百科。

光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。

... 深紫外光（DUV）,KrF 准分子激光：248 nm, ArF 准分子激光：193 nm.： 原理? 。

Y1D25—半导体光刻技术概述 - 知乎专栏。

接触式、接近式、投影式光刻机原理图. DUV光刻技术(Deep Ultraviolet)，在接触接近式光刻技术之后，以DUV为代表的投影式光刻技术成为主流。

根据光源波长及曝光方式的 ...： 。

3分钟了解光刻机 - 知乎专栏。

2019年1月2日 · 光刻机原理光刻机根据用途的不同，可以分为用于生产芯片、用于封装和用于LED制造。

按照光源和发展前后，依次可分为紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、极 ...： 。

关于ASML | 光刻技术的领导者。

你所不知的世界上最重要的科技公司. ASML是半导体行业的创新领导者。

我们提供涵盖硬件、软件和服务的全方位光刻解决方案，帮助芯片制造商在硅晶圆上批量“刻”制图形。

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